IBM repousse les limites de la technologie de fabrication des processeurs

Il s'agit d'un raffinement de la technologie actuelle de fabrication des processeurs, qui consiste à graver des circuits sur les puces en employant de la lumière et un système de masques.

En utilisant des rayons ultraviolets courts (longueur d'onde de 193 nanomètres), IBM est parvenu à graver des circuits de 29,9 nanomètres, c'est-à-dire le tiers de la finesse atteinte par la technologie de gravure employée à l'heure actuelle.

Dans son communiqué, IBM souligne que cette démonstration repousse un peu plus loin les limites de la lithographie optique, dont on croyait auparavant qu'elle ne pourrait être utilisée pour graver des circuits en deçà de 32 nanomètres.

«Notre objectif est de pousser la lithographie optique aussi loin que possible afin que l'industrie n'ait pas à adopter des alternatives coûteuses avant que cela ne devienne absolument nécessaire», explique un des chercheurs d'IBM.

En outre, IBM indique que l'utilisation de substances possédant un indice de réfraction élevé pourrait également contribuer à prolonger la vie de la lithographie optique, puisque cette technologie permettrait aussi une plus grande précision dans la gravure des circuits sur les puces électroniques.
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